美军资助研发可提升学习能力的外戴装置“非侵入性经颅直流电刺激” _美军

美军资助的专家正研发tDCS装置。图为过往美国空军研究的同类装置。

前额叶皮质控制了许多执行职能的地区。
（）一条令人戴上后会变得聪明的头带，看似是天马行空的想法，近日一批获美国军方资助的专家，正研发可提升用家学习能力的外戴装置，或可增加学习速度40%，有望最快能于2022年普及使用。
来自加拿大麦吉尔大学和“HRL”实验室的研究人员，在美国国防部辖下的国防高级研究计划署（DARPA）提供资金援助下，研究“非侵入性经颅直流电刺激”（tDCS）对增加学习速度和记忆形成的作用。tDCS装置会将电流施加到大脑的前额叶皮质，以改善大脑不同区域之间的连接，提升用家的学习能力。
实验中，头皮上放置了tDCS装置电极的猕猴，能以更少的尝试次数学会完成同样的任务，效率增加约40% 。首席研究人员皮利（Praveen Pilly）表示：“前额叶皮质控制了许多执行职能的大脑区域，包括决策、认知控制和情境记忆检索。它几乎与大脑其他皮层区域相连，刺激它能起到广泛作用。”
研究团队表示，现时正寻求美国食品及药物管理局的批准生产tDCS的装置，并相信它将于未来5至10年内广泛使用。